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薄膜電容產(chǎn)生氣隙電離的原因是什么?
作者:山東紅寶 來源:未知 日期:2020-01-15 16:46 瀏覽

金屬化薄膜電容器在制造過程中,介質(zhì)薄膜層與層之間不可避免的存在著氣隙。由于薄膜厚度的不均勻,薄膜表面的不平整,甚至金屬化鍍層厚度和薄膜表面之間的空隙以及生產(chǎn)工藝等因素,這種氣隙在某些位置還會(huì)比較嚴(yán)重。

因此,金屬化薄膜電容器如果無法消除這些氣隙,則在脈沖或交流應(yīng)用中當(dāng)脈沖或交流電壓超過某一水平時(shí),存在的氣隙會(huì)被電場擊穿,發(fā)生氣隙電離。電離時(shí)由于氣隙“中性分子的外層電子將脫離分子的束縛”而逸出 ,在電容器介質(zhì)薄膜和相鄰一層薄膜的金屬化鍍層電極之間,產(chǎn)生帶電荷的正、負(fù)離子。

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